陶瓷氧化鋅的制備方法
發(fā)布時(shí)間：2021-08-20 14:39 作者：氧化鋅
目前，制備陶瓷氧化鋅主要有物理法、化學(xué)法及一些興起的新方法。
1.物理法
物理法是采用光、電技術(shù)使材料在惰性氣體或真空中蒸發(fā)，然后使原子或分子形成納米微粒，或使用噴霧、球磨等力學(xué)過(guò)程為主獲得納米微粒的制備方法[1]。用來(lái)制備納米ZnO的物理方法主要有脈沖激光沉積(PLD)、分子束外延(MBE)、磁控濺射、球磨合成、等離子體合成、熱蒸鍍等。此法雖然工藝簡(jiǎn)單, 所得的氧化鋅粉體純度高、粒度可控，但對(duì)生產(chǎn)設(shè)備要求高，且得不到需要粒徑的粉體，因此工業(yè)上不常用此法。
2.化學(xué)法
2.1液相法
2.1.1 直接沉淀法
直接沉淀法就是向可溶性鋅鹽溶液中加入沉淀劑，經(jīng)過(guò)反應(yīng)形成沉淀物，再通過(guò)過(guò)濾、洗滌、干燥、煅燒從而制得超細(xì)的納米 ZnO 粉體。選用的沉淀劑有氨水(NH3· H2O)、碳酸銨((NH4)2CO3)、碳酸氫銨(NH4HCO3)、草酸銨((NH4)2C2O4)、碳酸鈉(Na2CO3)等。該法操作簡(jiǎn)便易行、所得產(chǎn)品純度高、對(duì)設(shè)備要求低且易規(guī)模生產(chǎn)，但是存在在洗滌的過(guò)程中陰離子難以洗盡、產(chǎn)物粒度分布不均勻、分散性較差、粉體易團(tuán)聚等缺點(diǎn)。
2.1.2 均勻沉淀法
均勻沉淀法是緩慢分解的沉淀劑與溶液中的構(gòu)晶陽(yáng)離子 （ 陰離子）結(jié)合而逐步、均勻地沉淀出來(lái)。常用的沉淀劑有尿素和六亞甲基四胺。該法克服了沉淀劑局部不均勻的現(xiàn)象，制得的陶瓷氧化鋅粒徑小、分布窄、團(tuán)聚小及分散性好，但反應(yīng)過(guò)程耗時(shí)長(zhǎng)、沉淀劑用量大、PH 的變化范圍較小、產(chǎn)率相對(duì)較低。而從總地來(lái)講，均勻沉淀法優(yōu)于直接沉淀法。
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